文章出處:行業動態 網責任編輯: 威斯特姆 閱讀量: 發表時間:2022-03-08
1、按照磁瓦指標值指標值、生產效率和準確度等技術標準挑選 了攝像機、鏡頭等硬件配置;根據照明實驗挑選 并設計適用磁瓦的光源照明模塊中的光源和照明方法,在這個基礎上建立了用來磁瓦圖像收集的硬件系統。
2、對于生產過程中磁瓦內表面上比較常見的4種瑕疵種類:裂痕(包括深裂痕和淺裂痕)、崩爛、欠磨、壓痕,運用平行的光線入射到物品表面上時會出現鏡面反射和漫反射。反射光和散射光的強度關鍵在于物品表面上的粗糙度和瑕疵的狀況。
因為瑕疵的出現,磁瓦表面上的粗糙度和反射平面法線大方向將產生變化,進而造成反射光和散射光強度的改變,且由表面上瑕疵造成的光強改變將超過由表面粗糙度差異所引起的光強改變。因為反射光和散射光中都包括有缺陷的信息按照反射光和散射光強度的改變判斷出瑕疵的改變。
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